一、 用途
该机是在H94-25型基础上作了改进的掩膜对准曝光机。主要用于φ100以下，厚度为0-5mm各种基片的曝光，性能稳定、精度高，深受用户的好评。
主要特点 1、 采用了高均匀性的多点光源曝光头，非常理想的三点找平机构，稳定可靠的真空压紧曝光，使本机曝光分辨率高、均匀性好。 2、
采用版不动、片动的对准方式，异轨自重和受力方向一致；承片台升降采用无间隙滚珠直进导轨及三点找平机构的应用，漂移小、对准速度快、精度高。
3、 根据用户需求，可提供特小基片曝光用的**承片台（5×5mm）。 4、
电控采用PLC控制，各主要元器件采用进口件，稳定可靠，操作、维护简单。 二、技术指标 基片尺寸 4″、3″、2″ 厚度0-5mm
掩膜版尺寸 □5″×5″ □4″×4″ □21/2″×21/2″ 对准精度 ±0.5μ 接触一分离漂移 ≤1μ 光刻**细线条
1－1.5μ 套刻调节 X、Y粗调±3mm 细调±0.3mm；θ粗调±15° 细调±3° 扫描观察 手动±15mm
微分离（手动、自动） 0-50μ 曝光方式 硬接触、软接触、微力接触 曝光头 多点光源（蝇眼透镜）
200W球形汞灯、冷风、曝光时间可调 光的不均匀性 φ100mm内≤4% 显微镜 双目分离视场50X-375X，分辩率≤0.9μ
外形尺寸重量 870×680×1600(mm); ~250kg
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