磁控溅射节能膜

 磁控溅射膜

  真空溅射工艺通常在一个很大的真空室，压力很低的惰性气体环境中及电能作用下进行。各种金属和金属合成靶材被带电离子撞击，造成金属原子成为自由粒子沉积在上面的聚酯薄膜的表面。这种工艺形成的隔热膜色彩稳定、透过率选择性灵活，具有**佳的阳光控制性能。

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