刻蚀机

特长

·通过磁场辅助，可以产生比其他ICP方式低压力、低电子温度、高密度等离子体，从离子性蚀刻到自由基性蚀刻，可以进行宽范围的等离子体控制，因此可以对应于作为开发tool的多用过程。

·搭载了防止RF投入窗的沉积物附着的“Star电极”。另外，具有加热功能，重视再现性和稳定性的装置概念。

·实现作为高可靠性输送机器人、装置构造简单、维护简单等研究开发Tool的可靠性。

·还可以追加丰富的可选功能和暗盒室。

·面向批量生产线，推出了由同一个Chamber构成的支持多个Chamber的NE-5700、NE-7700。

用途

·化合物材料（LED、LD、高频器件和功率器件）。

·电极加工、金属布线、有机膜、陶瓷等加工。

·用于加工铁电体、贵金属、磁性膜等难蚀刻材料。

·纳米压印、NEMS、MEMS、各种传感器。

·生物芯片、微流体装置、光子晶体等。

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