井式真空坩埚炉
发布时间 2019-07-25 10:26:54
产品描述
井式真空坩埚炉煅烧真空或惰性气体的高纯度化合物 退火或扩散半导体晶片多达6“直径
以进口含钼电阻丝或者硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和智能化程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，具有真空装置，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
井式坩埚炉的主要用途：高校、科研院所、工矿企业主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物，退火或扩散半导体晶片，也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等。
集控制系统与炉膛一体，其中炉膛保温材料采用整体真空吸附成型，程控镶嵌进口电阻丝。超大口径的石英炉腔和真空密封法兰系统，可在流动气氛和真空状态下快速加热样品。
主要用于金属、非金属及化合物材料进行烧结、融化、分析。控制面板配有智能温度调节仪，控制电源开关、主加热工作/停止按钮，以便随时观察。
井式坩埚炉的特点如下：
1、高品质惨钼铁铬铝合金作为发热元件，可加热到1200℃ 高纯石英杯：205外径x 190内径x 340高mm
2、高精度不锈钢针阀和真空表及真空法兰可直接使用。
3、内置30段可编程精密数字温度控制器可控制升降温速率。