光清洗灯/UV光清洗灯/紫外光清洗灯/UV灯

发布时间 2024-05-27 10:22:44

产品描述

光清洗灯/UV光清洗灯/紫外光清洗灯/UV
 
一、紫外线UV光清洗的特点
1、可在空气中进行并且在清洗后不必进行干燥。                 
2、可彻底清除物体表面的碳和有机污染物。
3、无溶剂挥发及废弃溶剂的处理问题。
4、保证产品的高可靠性和高成品率。
5、产品表面清洗处理的均匀度一致。
氧化的表面不宜用光清洗方法,只适对表面污垢清洗、不适对污垢量较多,无机类污垢清洗。
6、由于光清洗是通过光敏、氧化反应去除物体表面的碳和有机化合物,所以容易发生
二、紫外线UV光清洗的技术应用范围
主要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法**为合适。
主要材料:ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和 带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。
可以去除污垢:有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。
此UV光源在LCD工艺中又具有UV改质(紫外光表面质变)的特点,目前在液晶显示器STN的生产过程中,主要是用在膜处理技术上,对于改善膜与膜之间的密接是非常有效的,如ITO膜与感光胶膜层,TOP涂层与PI涂层等等。另在研究部门又可用来UV改性塑料材料产品,用于纳米技术研究,产品经此UV光照射发生化学反应,使产品表面性质改变。STN-LCD、彩色滤光片及OLED的制作过程中,有些制程设备相当雷同,差别在于制造工艺要求的不同。随着线路的精细化及产品的彩色比,LCD产业对制造工
艺的要求也不断地提升,而有"工欲善其事,必先利其器"之需求,因此只有设备能力不断地精进,才能提高生产的质量与效率。
涿州市优威圣威尔科技发展有限公司
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