高真空蒸发镀膜设备简介

    该设备为方型室蒸镀设备，可满足用户实现单质膜，多层膜及镀制复合膜的工艺要求。

    蒸镀室是以电阻加热的方式实现蒸发镀膜功能的，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在需镀衬底上蒸镀各种金属单层或多层膜，适用于实验室制备金属、氧化物、介质、扫描电镜制样等，也可用作教学及生产线前期工艺试验等，整套设备操作简便，综合功能多，扩展空间大，适合及满足院校的教学与科研。

    本设备由于采用了超高真空密封技术，极限真空高，恢复工作真空时间短；整机主要采用金属密封技术及超高真空阀门，前后开门采用氟胶圈，真空管路用不锈钢金属波纹管路，避免了传统结构带来的安装维护困难的问题。