纳米级硅溶胶应用于电子抛光CMP磨料抛光液

硅溶胶广泛用作3C产品和晶圆、芯片、半导体等精密电子元器件生产的研磨材料。硅溶胶的超细胶粒能够有效地抛光表面，确保平整度，同时小化表面缺陷。

磨料载体：

硅溶胶作为磨料的主要载体，在抛光过程中提供磨料的分散和固定，并在抛光过程中释放磨料以实现材料的研磨和去除。

控制抛光速度：

硅溶胶的粒径分布可以影响抛光速度和表面质量。通过调整硅溶胶的粒径及相关参数，可以实现对抛光速度的 控制，提高生产效率。

表面质量改善：

硅溶胶胶粒的细小尺寸有助于填补微小的表面缺陷，提高抛光的表面质量。它能够平滑表面、去除划痕和瑕疵，实现更光滑和均匀的表面。

控制抛光压力：

硅溶胶作为抛光液中主要成分，可以调节抛光液的黏度和流动性，从而控制抛光时的压力。适当的抛光压力有助于提高抛光的速率，同时避免划伤或其他抛光缺陷，实现抛光效率和抛光质量的平衡。

热稳定性：

硅溶胶具有良好的热稳定性和耐热性，它能够在研抛过程中保持研抛介质温度的基本稳定，减少热应力对设备和产品的影响，并提供持久的抛光性能。

优势：

1.超高纯度硅溶胶以降低污染和表面缺陷的风险

2.大胶粒尺寸的硅溶液以实现更好的抛光速度并保证产品的表面质量

1.采用聚乙烯塑料桶包装，主要包装规格有25KG,250KG.吨桶等

2.贮存时应避免敞口长期与空气接触、暴露、暴晒，贮存温度为0-40°C。低于0°C则产生冻胶。

我司量产的硅溶胶及抛光液，可为熔模铸造、陶瓷抛光、造纸、涂料、石油化工、蓄电池、食品工业、电子研磨等行业的高端客户提供优质、快捷的个性化服务。

欢迎咨询13392085230 李小姐

 

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