PECVD设备

产品简介：
Load-lock式Plasma CVD设备CC-200/400是小型的使用便利的可对应从研究开发到量产的设备。                                     

产品特性：
? 27.12MHz高密度等离子制程
 
? SiH4系：SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系：可对应SiO2膜
 
? 以CF4+O2 Plasma实现腔体清洁功能
 
? 可对应有机EL（OLED）的低温成膜用heater
 
? 使用Tray可搬送多种基板尺寸
 
? 通过使用真空Box实现C系列的间接连续制程（Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200）

产品应用：
? 功率器件

? LED、LD、高速device等化合物相关

? 有机EL（OLED）开发

? 太阳电池开发

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