真空柔性衬底薄膜沉积设备

      该设备是一台真空柔性衬底薄膜沉积设备，主要在柔性薄膜基底上沉积光电薄膜。

      工作条件：供电：～380V三相五线制供电系统，设备总功率约50kVA，占地面积6000×3000㎜，冷却水循环量5M3/H，工作环境温度10℃～40℃，冷却水温度15℃～25℃，极限真空：7×10-5Pa，**大有效衬底宽度220㎜。全不锈钢结构。

了解更多