磁控溅射镀膜机，电子电器真空电镀设备

此设备利用磁控射阴极辉放电原子（靶材）离化沉积在基材上（物理气沉积PVD)和真空中利用电阻加热法将金属丝熔融或金属分子汽化，对基材、手机壳等熟料表面进行金属化、利用特定薄膜涂层现产品不导电和电磁屏蔽的作用，以满足现行手机的高端电子产品制造行业标准；设备集中了等离子体处理，高端阴极磁控溅射、电阻蒸发镀膜装置，大装载量转架和自动化控制技术，工作可靠、重复性一致性良好、沉积速率快，附着力好，膜层品质细腻等，镀制的薄膜致密硬度高，摩擦系数低，可保持原有工件表面光洁度，具有韧性好，不易破裂脱落。设备实现镀膜工艺全自动化控制。在基材表面利用真空镀膜方法进行涂层，具有生产成本低、产品合格率高、绿色环保特点，主要适用于电脑、手机、高端工业（家用）电子电器、航空等领域，可镀制适用于电脑、手机高端工业（家用）电子电器、航空等领域，可镀制复合金属膜、合金膜、透明（半透明）膜、不导电膜、电磁屏蔽膜及特殊膜层等。

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