多弧离子镀膜设备

发布时间 2009-11-20 23:09:40

产品描述

 

多弧离子镀膜设备
 
应用范围
主要用于镀制多种金属,也可以镀多层膜、合金膜及化学物膜,如镀超硬耐磨损膜、防腐蚀膜、装饰膜(金、银、黑、红、蓝、绿等颜色),结合磁控溅射技术可镀制多层复合膜。
可以镀制不锈钢、铝、钛、钨等多种金属膜,也可镀制合金膜或化合物,如TiNTiC膜等, 适用于在表壳、眼镜框、餐具、五金件、刀具、陶瓷等表面镀制装饰膜或功能膜。近年,电弧离子镀膜技术得到了很大的发展,从原来单一的小弧源发展到柱弧、大平面弧等。而且与中频磁控溅射技术的结合使得设备的适用面更广,比如在硬质涂层的应用、更光洁细密的装饰涂层的应用等等。 

结构特点
1
、采用脉冲技术,使沉积粒子细化,膜的性能提高,且具有沉积速度快、离子能力大等特点;
2
、配备柱状阴极点弧源和磁控溅射源,适合范围广;
3
、新型靶源结构,有效提高离化率和膜层均匀性;
4
、所镀膜层具有硬度高,膜层与基底结合强度好,耐酸、碱、盐的能力强的特点.
 
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