磁控溅射镀膜生产线
发布时间 2009-11-20 23:12:07
产品描述
磁控溅射镀膜生产线
应用范围
主要用于在大平板玻璃上镀制金属单层质膜、合金膜或金属化合物膜，经镀膜的玻璃具有遮阳、保温、节能和装饰作用。
结构特点
1、采用新型的平面和柱状磁控溅射射靶技术，提高镀膜效果和效率。
2、配备高精度的磁控电源、气体流量和速度控制，自动化程度高，操作简便，性能稳定。
3、膜层均匀性好、附着力强、硬度高、抗腐蚀性好，可镀多种颜色的膜系。
4、真空室有传统的立式设计和高效的卧式设计，满足不同层次客户的需要。
主要用于在大平板玻璃上镀制金属单层质膜、合金膜或金属化合物膜，经镀膜的玻璃具有遮阳、保温、节能和装饰作用。
结构特点
1、采用新型的平面和柱状磁控溅射射靶技术，提高镀膜效果和效率。
2、配备高精度的磁控电源、气体流量和速度控制，自动化程度高，操作简便，性能稳定。
3、膜层均匀性好、附着力强、硬度高、抗腐蚀性好，可镀多种颜色的膜系。
4、真空室有传统的立式设计和高效的卧式设计，满足不同层次客户的需要。
产品特征：
1.上料工位
可供应手动装玻璃板的滚筒式传送带或自动装料系统。
2.入口清洗机
为获得高牢固性、无针孔、色泽鲜艳均匀的高品质膜层，清洗机设置了两组立刷洗涤，三组滚刷清洗，二组自来水冲洗，二组去离子水冲洗和四个风刀吹干机构，使玻璃特别清洁。
3.入口等待室
清洗过的玻璃保存在这里等待入口锁定室给出的接受讯号。等待室保持有微量正压，防止空气中尘埃进入。
4.入口锁定室
基片快速由入口等待室送入入口锁定室，由大抽速真空系统将该室真空抽至1Pa。
5.入口缓冲室
入口缓冲室作为入口锁定室和溅射室之间的过渡，真空度在1Pa至lO-1Pa之间。
6.溅射室
溅射室可分为结构相同的多个室，每室装壹个靶子，室与室之间工艺气体相互良好隔离。根据不同工艺要求，每室靶材及工艺气体可任意更换。玻璃基片通过靶子时，玻璃表面镀上单层或多层膜。
7.出口缓冲室
镀好的基片从缓冲室快速送入出口锁定室。
8.出口锁定室
当该室真空度达1Pa以上时，缓冲室与锁定室间阀门打开，基片快速送人锁定室。阀门自动关闭后，该室快速放气到105Pa，锁定室与下料等待台间阀门打开，基片快速送出。
9.出口等待室
玻璃片在此保存等待进入出口清洗机。
10.在线检验室
由一组光学测量系统及一组光源系统在线测量镀膜玻璃的透射率与反射率。
11.卸料工位
卸料工位可装备人工卸料机构成自动卸料装置。
12.磁控溅射电源
采用先进的电源技术，使溅射过程非常稳定，具有自动保护及自动复位功能。
13.电控系统
采用两台上位计算机和PLC系统对整个系统的重要工艺参数进行动态控制和显示，报警和报表打印。生产线上的多道光学监测装置均与计算机联网，实现自动测色，测膜厚。
1.上料工位
可供应手动装玻璃板的滚筒式传送带或自动装料系统。
2.入口清洗机
为获得高牢固性、无针孔、色泽鲜艳均匀的高品质膜层，清洗机设置了两组立刷洗涤，三组滚刷清洗，二组自来水冲洗，二组去离子水冲洗和四个风刀吹干机构，使玻璃特别清洁。
3.入口等待室
清洗过的玻璃保存在这里等待入口锁定室给出的接受讯号。等待室保持有微量正压，防止空气中尘埃进入。
4.入口锁定室
基片快速由入口等待室送入入口锁定室，由大抽速真空系统将该室真空抽至1Pa。
5.入口缓冲室
入口缓冲室作为入口锁定室和溅射室之间的过渡，真空度在1Pa至lO-1Pa之间。
6.溅射室
溅射室可分为结构相同的多个室，每室装壹个靶子，室与室之间工艺气体相互良好隔离。根据不同工艺要求，每室靶材及工艺气体可任意更换。玻璃基片通过靶子时，玻璃表面镀上单层或多层膜。
7.出口缓冲室
镀好的基片从缓冲室快速送入出口锁定室。
8.出口锁定室
当该室真空度达1Pa以上时，缓冲室与锁定室间阀门打开，基片快速送人锁定室。阀门自动关闭后，该室快速放气到105Pa，锁定室与下料等待台间阀门打开，基片快速送出。
9.出口等待室
玻璃片在此保存等待进入出口清洗机。
10.在线检验室
由一组光学测量系统及一组光源系统在线测量镀膜玻璃的透射率与反射率。
11.卸料工位
卸料工位可装备人工卸料机构成自动卸料装置。
12.磁控溅射电源
采用先进的电源技术，使溅射过程非常稳定，具有自动保护及自动复位功能。
13.电控系统
采用两台上位计算机和PLC系统对整个系统的重要工艺参数进行动态控制和显示，报警和报表打印。生产线上的多道光学监测装置均与计算机联网，实现自动测色，测膜厚。
腾胜真空技术工程有限公司
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联系电话：0758-2279559
传真：0758-2279559
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电子邮件：vacuumsale@hotmail.com
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