（PECVD）等离子体化学气相沉积系统

应用领域：

1.        等离子诱导表面改性

2.        等离子清洗（NF3）

3.        反应离子蚀刻

4.        等离子体聚合

5.        PECVD沉积SiO2、Si3N4、类金刚石、硬质薄膜等

技术指标：

1）   平板尺寸：8”

2）   源直径：5”或8”

3）   气体输入管数量：4（两个反应气，一个载气，一个排空管）

4）   源距平板的距离：2”或者可调

5）   真空：低于E-7Torr，200L/sec涡轮分子泵及3.5cfm机械泵组合

6）   **大平板温度：800℃

7）   射频电源供应：600W，13.5MHz

8）   射频偏压：300W，13.5MHz

产品型号：

NPE-3000 桌面型PECVD系统

NPE-4000 立式型PECVD系统

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