新一代合成金刚石设备制造研究计划完成

　　英格兰 ASCOT 2008年5月21日电 -- 由 Element Six Ltd 研究人员指导、并与斯特拉斯克莱德大学 （University of Strathclyde） Institute of Photonics（光子学研究所，简称 IoP）合作进行的 Micromachined Diamond Device Initiative（微机械金刚石设备计划，简称 MIDDI）圆满结束。MIDDI 部分资金由英国贸工部 （UK Department of Trade and Industry） 提供，旨在研发全球**的金刚石微电子设备制造技术，让欧洲公司比日本和美国公司更具竞争优势。

　　MIDDI主要专注于研发一个拥有先进微纳米制造技术的“工具箱”，该技术以合成单晶金刚石为基础，可用于新一代高频、高功率电子设备的开发。Element Six 在使用化学气相沉积制造电子级合成金刚石领域处于世界**地位。MIDDI 进一步扩大了这种**优势。

　　斯特拉斯克莱德大学 IoP一直扮演提供等离子体刻蚀技术专长的角色，该技术被用于界定设备制造所要求的精确表面特征。该研究所成立于1995年，已经成为刻蚀材料方面的专业技术中心，刻蚀材料素来难以加工。材料领域的专长促成了IoP 在半导体光电子学、固态激光工程和生物光子学方面的成功。

　　IoP 副所长 Martin Dawson 教授评论说：“MIDDI项目展示了英国大学是如何与工业领域合作并成功进行技术研发的。Element Six设计了项目的任务，为先进的金刚石结构提供了受控的掺杂特性；学校通过研发一种双方共同拥有专利的创新型干刻蚀方法来完成任务。这真正打开了生产金刚石电子产品之门，同时也拓宽了一系列新技术（包括金刚石光子学）的更广泛应用，凭借Element Six 的支持，斯特拉斯克莱德大学如今在该领域拥有非凡的影响力。”

　　该项目已在三个领域取得显著成就，这将有助于 Element Six 为采用金刚石制造的主动电子设备的开发提供支持。**，拥有原子级低粗糙度表面的基片和外延层生产中所采用的合成和加工技术得到改善。制造高精度金刚石纳米层的能力取决于一系列复杂的加工和合成步骤。对于一个高频主动电子设备来说，某些个别纳米层要求厚度为几纳米。此外，这些纳米层需要有原子级的平滑度和极度精确的杂质分布。

　　其次，Element Six 现在能够存放纳米级厚度的掺硼金刚石薄层。依据 delta MESFET这样的金刚石提出来的主动交换设备概念使用这些夹在两个未掺杂其他物质的原金刚石层之间的薄层来支持晶体管作用。**终 MIDDI得出了一种可再生的全面刻蚀技术，适用于晶体管设备制造。